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        光電薄膜先進制造

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        【摘要】:
        研究目標:不斷提升光學薄膜與功能薄膜理論水平,完善薄膜制備工藝,開創新型測試方法。在國內實現引領學科發展,滿足國家戰略需求的目的?! ≈饕芯糠较蛉缦拢骸 薄膜光學理論及成膜技術研究  以電磁場理論為基礎,借鑒光子晶體理論和亞波長理論的相關知識,發展并完善薄膜光學理論;利用PVD和CVD手段進行薄膜沉積技術研究,在微尺度上研究不同工藝的成膜物理過程,結合各種檢測等對薄膜的特性進行準確表征和深入研

          研究目標:不斷提升光學薄膜與功能薄膜理論水平,完善薄膜制備工藝,開創新型測試方法。在國內實現引領學科發展,滿足國家戰略需求的目的。

          主要研究方向如下:

          l 薄膜光學理論及成膜技術研究

          以電磁場理論為基礎,借鑒光子晶體理論和亞波長理論的相關知識,發展并完善薄膜光學理論;利用PVD和CVD手段進行薄膜沉積技術研究,在微尺度上研究不同工藝的成膜物理過程,結合各種檢測等對薄膜的特性進行準確表征和深入研究,實現成膜機理認識的突破。

          2 超大尺寸反射鏡鍍膜設備及工藝

          針對超大尺寸反射鏡的特點,探索新的鍍膜方法,解決SiC反射鏡表面改性和高反射膜鍍制的難題,引領國內超大型真空鍍膜設備制造的發展,研發配套工藝,為我國地基和天基應用的超大尺寸反射鏡鍍膜提供堅實的技術支持。

          3 新型硅基近紅外探測器光電材料研究

          通過對黑硅材料制備工藝、摻雜濃度、摻雜粒子種類、表面金屬納米顆粒沉積等方面的研究,深入探索黑硅材料的結構與特性,突破其在光電探測器件中應用的關鍵技術問題。

          4 雷達與紅外隱身功能材料設計與制備工藝技術研究

          通過開展雷達隱身超材料的宏觀本構參數設計與反演技術、集總型有源可調控隱身材料與饋電網絡一體化設計技術、曲面激光刻蝕準確定位與材料精確去除技術、多維復合紅外隱身材料的分析設計與工藝制備技術的研究,突破傳統雷達隱身材料性能局限和制造瓶頸,發展頻率可調控的有源隱身材料技術,建立起完備的設計、制造和測試條件保障,形成多功能雷達隱身材料的研制能力,實現多種型號應用,滿足國家重大戰略需求;以紅外隱身技術為切入點,探索紅外隱身材料新機理、新方法,創新紅外隱身材料制備工藝,為武器裝備的紅外隱身技術提供新思路、新技術。在此基礎上,進一步將研究工作拓寬到可見光隱身技術領域,為我所在先進光學技術領域開辟新方向。

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